TY - JOUR T1 - Photo-deprotection patterning of self-assembled monolayers JO - J EXP NANOSCI PY - 2007/01/01 AU - Critchley K AU - Ducker R AU - Bramble JP AU - Zhang L AU - Bushby RJ AU - Leggett GJ AU - Evans SD ED - DO - DOI: 10.1080/17458080701675780 VL - 2 IS - 4 SP - 278 EP - 290 Y2 - 2025/05/21 ER -